某半导体技术制造出品牌因晶圆冲洗道工序造成含氨化工废水，排水量200吨/天。化工废水底除氯离子外还包含氟化物和轻微高价属，正确处理分值大。当地政府排出基准标准氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水含量及来源于 晶圆冲洗废水处理（主要是由来）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺化工废水：含轻微铜、镍等血本属，pH值动荡大 CMP粉磨废渣：含硅顆粒及挥发酚 处置施工施工顺序图 按照"生物沉积+膜分离出来+折点氯化"组装工艺技术： 预治理 ：加药CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 反渗透装置软件 ：清掉0.01μm往上粒子物 反进行渗透精提 ：将氟化物原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 至1000mg/L以内 折点氯化 ：正确操作氯加药系统量，将化学需氧量还原成为氢气 正离子更换 ：确保血本属达到 进而功能 高锰酸盐指数动态平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属份量超过检侧限 水回收利用率达75% 淤泥导致量限制40%